變形工具
扭曲工具在畫布上自由地推、拉和流動像素。在 Lumi 中,它比大多數實現更進一步:它可以將整個圖層群組(無論它包含多少嵌套圖層和遮罩)扭曲為單一統一對象,而不會展平或遺失任何結構。
概述
選擇一個圖層並在其上拖曳以在任意方向上移動像素。在您工作時,扭曲是非破壞性的:您可以撤消和重做各個筆劃,更改畫筆大小或筆劃之間的行為,並繼續細化直到您提交。提交會將累積的位移圖破壞性地應用於圖層的像素資料。
當選擇群組圖層時,工具會對整個群組進行操作。您可以查看整個合成組的即時預覽並與之互動。提交時,相同的扭曲被精確且獨立地應用於組內的每個子層和蒙版,從而保留完整的層結構。
群組變形
扭曲組是 Lumi 扭曲工具與眾不同的主要功能。
它解決的問題
在大多數繪畫程序中,扭曲多層插圖需要先展平組(破壞圖層結構)或單獨扭曲每個圖層並嘗試透過眼睛匹配它們(繁瑣且不精確)。這兩種方法都不會保留原始結構以進行進一步的無損編輯。
Lumi 將整個組作為一個項目進行扭曲,然後將完全相同的變換分配到其中的每一層。
它是如何運作的
當您選擇一個群組並開始扭曲描邊時,Lumi 會根據該群組的合成投影建立一個浮動預覽圖層。如果該組有蒙版,則該蒙版會烘焙到預覽中,以便預覽準確地呈現最終外觀。您可以直接在此預覽上繪製扭曲筆觸 - 您所看到的正是您所得到的。
提交時,Lumi:
- 將位移應用到群組內的每個基本圖層(包括子群組中深度嵌套的圖層),將每個圖層的畫布擴展至足以捕捉完整的扭曲區域。
- 在同一通道中對組內的每個蒙版應用相同的位移。
- 恢復組的自動邊界計算,以便調整組的大小以適合其新扭曲的子項。
- 將每個變形圖層裁切回其實際繪製的內容,以保持檔案大小緊密。
- 刪除預覽圖層並從更新的子圖層重新產生群組投影。
所有這一切都發生在一個撤銷步驟內。提交後,該組看起來與預覽中的一模一樣,每個圖層和蒙版都完好無損。
面具
扭曲蒙版選項(預設啟用)會導致扭曲目標內的每個圖層和群組上的蒙版接收相同的位移變換。圖層蒙版隨其圖層一起移動:剪切角色輪廓的蒙版在變形後繼續剪切相同的輪廓。
當 Warp Masks 關閉時,只有圖層內容會發生位移;面罩保留其原始位置。
工具選項
行為
| 模式 | 效果 |
|---|---|
| 移動 | 沿著筆畫方向推動像素。大多數翹曲工作的主要模式。 |
| 成長 | 從畫筆中心向外擴展像素。 |
| 收縮 | 將像素向內拉向畫筆中心。 |
| 順時針旋轉 | 圍繞畫筆中心順時針旋轉像素。 |
| 逆時針旋轉 | 圍繞畫筆中心逆時針旋轉像素。 |
| 擦除 | 消除扭曲位移,將像素恢復到原始位置。 |
| 平滑 | 擴散位移,柔化扭曲和未扭曲區域之間的突然過渡。 |
畫筆控制
- 大小:扭曲畫筆的直徑(以像素為單位)。較大的畫筆會取代較寬的區域,並產生較柔和的衰減;較小的刷子可提供精確的局部控制。
- 硬度:從中心到邊緣的衰減。高硬度可在整個刷子區域產生均勻的位移;低硬度將效果集中在中心。
- 強度:每個筆畫像素移動的距離。較低的強度可以實現微妙的、逐漸的塑形;更高的力量會產生戲劇性的、快速的運動。
划水計時
- 運動期間的行程(僅限移動模式):在滑鼠移動時連續施加扭曲,而不是僅在計時器脈衝上應用扭曲。用於流暢的筆刷筆觸,您希望位移直接跟隨遊標。
- 定期描邊:按住滑鼠按鈕時以固定時間間隔套用扭曲。用於增長、收縮和漩渦模式,其中連續循環應用是目的。
- 速率:週期性行程應用的頻率。
質量
- 插值:提交時所使用的採樣方法。對於大多數工作來說,線性是快速且平穩的; Cubic 和 Nohalo 為精細細節提供了更高的保真度。
- 高品質預覽:在互動式預覽期間使用提交品質採樣器。速度較慢,但預覽與提交的結果完全匹配。
群組選項
- 擴展扭曲區域(僅限群組扭曲):作為透明邊距添加到所有側面的群組預覽周圍的像素數。這為流離失所的內容提供了進入的空間。預設 256 px 對於大多數工作來說已經足夠了;對於內存很重要的大圖像減少它,或者對於非常大的位移行程增加它。
- 扭曲蒙版:是否對圖層和群組蒙版應用相同的扭曲。預設開啟。
撤銷和重做
每個筆劃都是扭曲會話中的一個離散撤消步驟。 Ctrl+Z 刪除最後一筆筆畫並將置換貼圖恢復到先前的狀態。 Ctrl+Y(或 Ctrl+Shift+Z)重新套用它。您可以在提交之前回顧整個中風歷史記錄。
按 Escape 或切換工具會丟棄所有未提交的筆畫並將圖層恢復到原始狀態。在您明確提交之前不會寫入任何變更。
承諾
按一下 Commit 按鈕(或按 Enter)以破壞性地套用累積的扭曲。對於群組扭曲,這會觸發上述完整的多層應用程式。已提交扭曲的撤消歷史記錄是影像撤銷堆疊中的單一條目,可透過標準編輯 → 撤銷進行逆轉。